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當(dāng)前位置：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司>>EVG納米壓印機(jī)>>UV-NIL/SmartNIL紫外壓印>> EVG610納米壓印光刻系統(tǒng)
該設(shè)備支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶(hù)需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間僅為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專(zhuān)家級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。
對(duì)于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機(jī)制。EV Group專(zhuān)有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤(pán)設(shè)計(jì)既支持軟印章也支持硬印章。
納米壓印機(jī)技術(shù)數(shù)據(jù)：
| 晶圓直徑 | （基板尺寸） |
| 標(biāo)準(zhǔn)光刻 | 碎片蕞大150毫米 |
| 柔軟的UV-NIL | 蕞大150毫米的碎片 |
| 解析度 | ≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） |
| 支持流程 | 柔軟的UV-NIL |
| 曝光源 | 汞光源或紫外線(xiàn)LED光源 |
| 自動(dòng)分離功能 | 不支持 |
| 工作印章制作 | 外部 |
納米壓印機(jī)特征：
1) 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力
2) 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
3) 自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制
4) 電動(dòng)和配方控制的曝光間隙
5) 支持新的UV-LED技術(shù)
6) 蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
7) 分步流程指導(dǎo)
8) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持
9) 多用戶(hù)概念（無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和配方，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言）
10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
11) 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
納米壓印機(jī)主要應(yīng)用：
具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。
附加功能：
1) 鍵對(duì)準(zhǔn)
2) 紅外對(duì)中
3) 納米壓印光刻
4) 微接觸印刷
納米壓印工藝結(jié)果：
圖1 微鏡頭
圖2 納米壓印結(jié)果（100納米分辨率）
